次大气压下辉光放电的视觉特征呈现均匀的雾状放电,放电的电流电学特征为单脉冲,放电温度为室温。次大气压辉光放电可以处理各种高分子材料、生物材料、金属材料、纺织品材料、异型材料。设备成本低、处理的时间短、可加入各种气氛,气氛含量高、功率密度大、处理效率高。可应用于表面聚合、表面接枝、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成及各种粉、粒、片材料的表面改性和的表面处理。电子和离子的能量可达10eV以上。材料批处理的效率要高于低气压辉光放电10倍以上。 主要应用于表面清洗、改善复合材料粘附性、细胞培养皿,组织培养皿的亲水、心脏冠状动脉支架、生物传感器的表面处理。 | |
HPD-2400生产型设备 次大气辉光放电处理机 规格: 次大气辉光放电效果图 用途: 1. 酶标板、细菌计数培养皿、细胞培养皿、组织培养皿的亲水处理。经过等离子体处理后细菌培养皿表面由疏水变为亲水,并获得支持细胞黏附铺展的能力.并适用于细胞培养。等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证,处理过的样品表面完全被水润湿。 | |
HPD-280实验型设备 次大气辉光放电处理机 次大气辉光放电效果图 规格: | |
HPD-100C实验型设备 1. 型号:HPD-100C 2. 电源:单相AC220V(±10%) 3. 功率:500VA; 4. 腔极尺寸:100mm×200mm; 5. 设备尺寸:620(W)×750(H)×450(D)mm 6. 设备重量:100kg 7. 腔体压力:20~200Pa |